HL-X860/1200 CTP/PS 열판 프로세서는 컴퓨터로 제어됩니다., CTP Thermal Plate Processor가 워싱 현상을 마무리합니다., 검화와 건조를 한 사이클로 자동으로 완료. 매우 긴 현상 과정과 정확한 온도 제어로 도트가 실제적이고 균일하게 유지됩니다..
1. 확장된 현상 섹션과 안정성을 제공하는 특수 헤어 브러시 2개, 고르고 철저하게 발전하는 곳. 속노광형 감열판에 최적.
2. 현상액을 위한 정밀한 항온열 시스템으로 현상액 온도를 효과적으로 제어할 수 있습니다.. 오차는 0.5℃ 이하.
3. 먼지와 불순물을 능숙하게 걸러내는 액체 사이클 시스템 개발, 접시가 깨끗한지 확인하세요.
4. 모든 매개변수와 절차는 컴퓨터로 제어됩니다., 정확하고 신뢰할 수 있는. 스프레이-물은 접시와 함께 제공되며 접시가 갈 때 물을 중지합니다.. 고무질 롤러를 자동으로 원합니다., 접착제와 검밍 롤러 고체가 굳지 않도록 하십시오..
현상 속도와 같은 매개변수, 브러시 회전 속도와 온도는 디지털화 표시 가능.
HL-X860/1200 CTP/PS 열판 프로세서
상세 데이터:
| 모델 | XCTP860 | XCTP1200 |
| 최대 플레이트 폭 | 860mm | 1200mm |
| 건조온도 | 30℃-60℃ | |
| 최소 플레이트 길이 | 350mm | |
| 판.두께 | 0.15-0.4mm | |
| 개발 속도 | 20-60에스 | |
| 온도를 발달시키다 | 15℃-40℃ | |
| 리터를 개발하다 | 20엘 | 25엘 |
| 전원 공급 장치 | 1Φ/AC22V/30A | |
| 길이×폭×높이(mm) | 2520×980×1000 | 2520×1180×1000 |
| 순중량 | 380킬로그램 | 560킬로그램 |
회사 소개
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